蓝宝石衬底材料抛光液介绍

宇昊业务范围：蓝宝石抛光液,硅材料抛光液,CMP抛光液,衬底抛光液,窗口抛光液,铝合金抛光液,不锈钢抛光液,玻璃抛光液,蓝宝石清洗剂,硅材料清洗剂,窗口清洗剂,衬底清洗剂,蓝宝石材料清洗剂,光学电子清洗剂等。同时还可以根据客户的标准开发特异型抛光液产品。
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        本产品是解决公知蓝宝石衬底材料抛光液在抛光过程中存在的衬底片表面 去除速率低、粗糙度高、易划伤、易蹋边等问题，而公开一种化学作用强、去除 速率快、表面粗糙度低、无划伤，且成本低的蓝宝石衬底材料抛光液。 本产品中各组分的作用分别为：

        纳米硅溶胶作为抛光液磨料，其粒径小(20～30nm)、浓度高（>35%）、硬度 小（对基片损伤度小）、分散度好，能够达到高速率高平整低损伤抛光、污染小， 解决了Al2O3磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端；

        胺碱作为抛光液 pH 调节剂,可起到缓冲剂的作用，又可生成大分子产物且溶 于水，使反应产物在小的机械作用下即可脱离加工表面，同时还能起到缓蚀、络 合等作用，同时具有优良去除金属离子的性能，降低待加工片的表面金属离子沾 污。

        表面活性剂可降低表面张力，提高凹凸选择比，又能起到渗透和润滑作用， 从而有效的提高了交换速率，增强了输运过程，达到高平整高光洁表面。

   本产品的有益效果和优点：

• 1．选用碱性抛光液，可对设备无腐蚀，硅溶胶稳定性好，解决了酸性抛光 液污染重、易凝胶等诸多弊端；利用基片材料的两性性，pH 值 9 以上时，易生 成可溶性的化合物，从而易脱离表面；
• 2．选用纳米SiO2溶胶作为抛光液磨料，其粒径小(20～30nm)、浓度高（>35%）、 硬度小（对基片损伤度小）、分散度好，能够达到高速率高平整低损伤抛光、污 染小，解决了Al2O3磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端；
• 3．选用表面活性剂的应用，增加了高低选择比，大大降低了表面张力、减小 了损伤层、提高了基片表面的均一性、使得表面凹凸差大大降低，从而有效的提 高了交换速率，增强了输运过程，达到高平整高光洁表面；
• 4．选用有机碱作为抛光液 pH 调节剂,可起到缓冲剂的作用，又可生成大分 子产物且溶于水，使反应产物在小的机械作用下即可脱离加工表面，同时还能起 到络合及螯合作用。

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