计算机硬盘抛光液05S100

宇昊业务范围：蓝宝石抛光液,硅材料抛光液,CMP抛光液,衬底抛光液,窗口抛光液,铝合金抛光液,不锈钢抛光液,玻璃抛光液,蓝宝石清洗剂,硅材料清洗剂,窗口清洗剂,衬底清洗剂,蓝宝石材料清洗剂,光学电子清洗剂等。同时还可以根据客户的标准开发特异型抛光液产品。
全国咨询热线：4000 - 800 - 463，更多联系方式：http://www.hbyuhao.cn/contact/

通过碱性SiO₂纳米水溶胶为磨料对YH03型计算机硬盘基片抛光液进行纳米级加工，同时加入金属离子稳定剂解决了基片表面金属离子污染的问题，且加入超低表面张力的活性剂，使抛光后基片易清洗，对有机污染物去除率高。
此抛光液具有高去除速率的特点（0.3-1μm/min），损伤层低，实现计算机硬盘基片CMP加工中表面全局的高平整、低粗糙度、低缺陷密度和高洁净度，满足计算机硬盘的加工要求，并且不存在酸性介质对抛光设备的腐蚀。
主要用途: 用于计算机硬盘基片CMP工艺抛光。