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计算机硬盘抛光液05S100

来源:http://www.hbyuhao.cn  作者:河北宇昊纳米材料有限公司  日期:03-24 11:23  热度:

宇昊业务范围蓝宝石抛光液,硅材料抛光液,CMP抛光液,衬底抛光液,窗口抛光液,铝合金抛光液,不锈钢抛光液,玻璃抛光液,蓝宝石清洗剂,硅材料清洗剂,窗口清洗剂,衬底清洗剂,蓝宝石材料清洗剂,光学电子清洗剂等。同时还可以根据客户的标准开发特异型抛光液产品。
全国咨询热线4000 - 800 - 463更多联系方式http://www.hbyuhao.cn/contact/

通过碱性SiO2纳米水溶胶为磨料对YH03型计算机硬盘基片抛光液进行纳米级加工,同时加入金属离子稳定剂解决了基片表面金属离子污染的问题,且加入超低表面张力的活性剂,使抛光后基片易清洗,对有机污染物去除率高。
此抛光液具有高去除速率的特点(0.3-1μm/min),损伤层低,实现计算机硬盘基片CMP加工中表面全局的高平整、低粗糙度、低缺陷密度和高洁净度,满足计算机硬盘的加工要求,并且不存在酸性介质对抛光设备的腐蚀。
主要用途: 用于计算机硬盘基片CMP工艺抛光。

主要技术指标 pH值 密度(g/cm3 粘度(mPa·s) 粒径(nm) SiO2含量(wt) 外观
10.5-11.0 1.25-1.30 ≤2.2 100±5nm 40±1wt% 乳白色胶体
使用方法:
可根据具体生产要求加10-15倍水稀释使用;
储存方法:
避光,密封,放置于干燥阴凉处。5-35℃储存,12个月内使用有效,建议半年内使用。
包装方式:
20kg塑料桶,25kg塑料桶;一吨以上托盘运输。


宇昊业务范围蓝宝石抛光液,硅材料抛光液,CMP抛光液,衬底抛光液,窗口抛光液,铝合金抛光液,不锈钢抛光液,玻璃抛光液,蓝宝石清洗剂,硅材料清洗剂,窗口清洗剂,衬底清洗剂,蓝宝石材料清洗剂,光学电子清洗剂等。同时还可以根据客户的标准开发特异型抛光液产品。
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