单晶硅抛光液性能特点

宇昊业务范围：蓝宝石抛光液,硅材料抛光液,CMP抛光液,衬底抛光液,窗口抛光液,铝合金抛光液,不锈钢抛光液,玻璃抛光液,蓝宝石清洗剂,硅材料清洗剂,窗口清洗剂,衬底清洗剂,蓝宝石材料清洗剂,光学电子清洗剂等。同时还可以根据客户的标准开发特异型抛光液产品。
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• ●极强的携载性能、悬浮性能；
• ●克服了传统中性切削液单一机械作用的缺点，将化学劈裂作用与机械切割作用完美的结合在一起，作用力均一稳定，有效解决了切片工艺中的应力腐蚀问题，从而大幅度降低了损伤；
• ●有效解决了切屑和切粒粉末的再沉积问题，避免了硅表面的化学键合吸附现象，便于硅片的清洗和后续加工；
• ●散热效果好
• ●无离子污染，有效消除金属离子尤其铁离子的污染；
• ●良好的清洗渗透性能，可防止工具磨具钝化，对磨具具有良好的自锐作用，提高工具的切削力，延长工具的使用寿命，缩短单个工件加工时间；
• ●突出的润滑性能，明显降低切削工件时产生的噪音，减少划痕、表面粗超、崩边、碎片等现象的出现，明显改善加工工件的表面质量，大幅度提高工件的光洁度。
• ●良好的防锈性能，抗腐臭性能，产品稳定性好，使用寿命长；
• ●水性环保产品；

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